机械剥离二氧化硅基底单层二硫化钼 | 北京灵宝科技委托生产,技术转让,CDMO,OEM,ODM,CRO,CMO,菌珠构建,化药合成工艺转让;基因编辑;新药证书转让;临床批件转让;项目融资;CRA;CRC

产品中心

机械剥离二氧化硅基底单层二硫化钼 Mechanical exfoliation MoS2 on SiO2 1 layer
产品编号：	P0103956	CAS号：
分子式：		分子量：	0
EIENCS：

产品名称：机械剥离二氧化硅基底单层二硫化钼
中文别名：
英文名称：Mechanical exfoliation MoS2 on SiO2 1 layer
英文别名：
分子式：
分子量：0